サークル案内 | アトリエ　えー・える・でぃ

えーえるでぃはエンジニアをやっていた頃最後に開発したいた設備でAtomic Layer Deposition（＝ALD:原子層堆積装置）の事です。後で調べたら病気でもALDというのがありましたが、そちらではありません。

ひどろきしるは（hydroxil＝-OH：水酸基）に由来しています。

ALDは主に金属酸化物を原子1層ずつ積層する装置なので、材料の1つとして使っていました。今は金属も体積できる材料がありますが、メインはまだ酸化物です。分子層も体積できる装置もありますがそちらはMLDと呼ばれています。

トリメチルアルミナム（trimethil aluminum）もALDで良く使われる材料で酸化アルミの絶縁層を形成できます。

数年前インテルでゲートの絶縁に使い始めたという事でしたが、その時はMO-CVDだったみたいです（一部はALDだったという話も・・・）

今やっている事とは直接関係ないですが、変更するのも面倒なので使い続けています。

ただ、今はフリーランスですが顧客の中に水処理関連の設計を依頼される事もあり、ヒドロキシル基の話は時々出ますね・・・公開していない話なのでちょっとドッキリします（笑）

ピクシブにてイラスト公開中　下記リンクより

このリンクでは直接入れないみないなので、”ひどろきしる”で検索してください

直接入る方法を探します

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近くの方は実際に加工器具等を借りて作業ができます。来るのが難しい方はデザインやイラストでの参加も可能です。

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